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      PECVD是什么

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      PECVD是什么

      等離子體增強化學的氣相沉積法。實驗機理：借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。優點：基本溫度低；沉積速率快；成膜質量好，針孔較少，不易龜裂。缺點：設備投資大、成本高，對氣體的純度要求高；對小孔孔徑內表面難以涂層；沉積之后產生的尾氣不易處理。
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      導讀等離子體增強化學的氣相沉積法。實驗機理：借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。優點：基本溫度低；沉積速率快；成膜質量好，針孔較少，不易龜裂。缺點：設備投資大、成本高，對氣體的純度要求高；對小孔孔徑內表面難以涂層；沉積之后產生的尾氣不易處理。

      等離子體增強化學的氣相沉積法。

      實驗機理：借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。

      優點：基本溫度低；沉積速率快；成膜質量好，針孔較少，不易龜裂。

      缺點：設備投資大、成本高，對氣體的純度要求高；對小孔孔徑內表面難以涂層；沉積之后產生的尾氣不易處理。

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      等離子體增強化學的氣相沉積法。實驗機理：借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。優點：基本溫度低；沉積速率快；成膜質量好，針孔較少，不易龜裂。缺點：設備投資大、成本高，對氣體的純度要求高；對小孔孔徑內表面難以涂層；沉積之后產生的尾氣不易處理。
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